Композитная тонкопленочная система PVD

Композитная тонкопленочная система PVD

Детали
Промышленная-система вакуумного покрытия, объединяющая магнетронное распыление (RF/DC/HiPIMS) и катодно-дуговое испарение. Предназначен для непрерывного, много-осаждения тонких-пленок, сплавов и нано-тонких-пленок в промышленных масштабах.
Категория
Оборудование для производства композитных тонких пленок PVD
 
Отправить запрос
Описание
Технические параметры

Промышленная-система вакуумного покрытия, объединяющая магнетронное распыление (RF/DC/HiPIMS) и катодно-дуговое испарение. Предназначен для непрерывного, много-осаждения тонких-пленок, сплавов и нано-тонких-пленок в промышленных масштабах.

 

Технические характеристики

 

Параметр

Спецификация Значение

Предельное вакуумное давление

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration)

Размеры камеры

Размеры по индивидуальному заказу от D 600 x 600 мм до D 1500 x 1500 мм (электро-полированная нержавеющая сталь 304/316L)

Источники осаждения

Конфигурация: 2–6 катодов магнетронного распыления / 2–4 дуговых источника.

Сила смещения подложки

Регулируемый от 0 до -1000 В постоянного тока (импульсный постоянный ток для диэлектрических подложек)

Равномерность толщины пленки

<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation)

Температура подложки

Температура окружающей среды до 650 градусов (+/- 2 градуса ПИД-регулирование с замкнутым-контуром)

Распределение мощности

ВЧ (13,56 МГц), постоянный ток, импульсный постоянный ток и среднечастотный-частотный режим (СЧ) с подавлением дуги

 

Ключевые особенности


Двойная-интеграция технологий:Сочетает напыление (гладкие пленки аморфных соединений) и катодную дугу (осаждение металлов/сплавов с высокой-ионизацией) в одном цикле откачки-.


Замкнутый-управление газом:Регуляторы массового расхода (MFC) в сочетании с оптическим контролем выбросов (OEM) стабилизируют парциальное давление реактивного газа.


Механическая изоляция:Многоосные планетарные приводы-изолируют механические подшипники от технологической зоны, предотвращая загрязнение твердыми частицами.


Тепловая архитектура:Двойные-стенки с водяным-охлаждением камеры и радиационная защита предотвращают тепловые искажения во время-работы на высокой мощности.


Ядро автоматизации:ПЛК Siemens S7-1500 и архитектура SCADA WinCC для мониторинга блокировки, газа и питания в реальном времени.

 

Конфигурация вакуумной системы


Черновой поезд:Пластинчато-роторные насосы с прямым-приводом и воздуходувками Рутса с уплотнениями из магнитной жидкости.


Высокий вакуум:Турбо-молекулярные насосы на магнитной подвеске (1200 - 3200 л/с) или криогенные насосы.


Диагностика:Встроенные тестовые порты гелиевого масс-спектрометра и блокировки автоматического секвенирования.

 

Совместимость материалов и подложек


Целевые материалы:
Металлы:Ti, Cr, Al, Zr, Cu, TiAl, CrAl, Si


Керамика/Компаунды:TiN, CrN, TiAlN, DLC, Al2O3, SiO2


Субстраты:Инструментальные стали (H13, M2, твердосплавные пластины), титано-алюминиевые конструкционные сплавы, конструкционная керамика и кремниевые пластины.

 

Приложения и проверенная производительность


Режущие инструменты:Многослойные покрытия с низким-трением и высокой-твёрдостью-(TiAlN/TiN) увеличивают срок службы инструмента при сухой высокоскоростной-обработке.


Автомобильная промышленность:Износостойкие и противо-задирные покрытия поршневых колец и штифтов впрыска топлива.


Аэрокосмическая промышленность:Устойчивый к окислению-термический барьер и защитные пленки на лопатках компрессора и крепежных элементах.


Оптика и электроника:Проводящие прозрачные оксиды (ITO) и оптические интерференционные фильтры.

 

Параметры настройки


Геометрия камеры:Прямоугольные конфигурации коробок для загрузки в стеллажи или цилиндрические линейные геометрии.


Источник Модернизация:Сменные монтажные фланцы катода для переоборудования на CFUBMS в полевых условиях.


Плазменное травление:Ионные пушки типа Кауфмана-или источники с полым катодом для очистки подложек на-на месте.

 

Контроль качества и заводские испытания


Целостность вакуума:Порог испытания на утечку гелия<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.


Поверхностная обработка:Внутренние сварные швы камеры электро-полированы до Ra<= 0.4 um.


ТОЛСТЫЙ:72-часовые непрерывные испытания вакуума, движения и защитных цепей блокировки вхолостую перед помещением в ящик.


Стандарты соответствия:Создано в соответствии с директивами CE по машинному оборудованию и стандартами ISO 9001. (Значки значка доверия: ISO 9001, CE, UL)

 

Установка и техническая поддержка


Пакет документации:Схемы P&ID, электрические схемы, логика источника ПЛК и досье соответствия CE/UL.


Ввод в эксплуатацию:Инженеры на местах контролируют механическое позиционирование, подключение к инженерным сетям и проверку герметичности.


SAT и передача рецептов:Выполнение базовых тестов на-сайте и оптимизация рецептов.

 

Часто задаваемые вопросы

 

Вопрос: Каково время откачки-до базового давления?

A: Достигает давления < 5,0 x 10^-4 Па в течение 45 минут в чистых, сухих и температурных условиях окружающей среды.

Вопрос: Может ли система переключаться между распылением постоянным током и радиочастотным напылением в ходе-процесса?

А: Да. Матрица мощности позволяет программно-контролировать последовательность между постоянным током, импульсным постоянным током и радиочастотным сигналом без нарушения вакуума.

Вопрос: Какие утилиты необходимы на-сайте?

A: Охлажденная вода (от 15 до 20 градусов при давлении от 0,3 до 0,4 МПа), сжатый воздух (0,6 МПа), технологические газы высокой-чистоты (Ar, N2, O2 при 99,999%) и выделенное трехфазное промышленное питание.

Вопрос: Как регулируется температура подложки во время осаждения?

A. Встроенные инфракрасные пирометры в сочетании с блоками лучистых нагревателей и ПИД-регулированием с замкнутым-контуром.

 

горячая этикетка : pvd-композитная тонкая пленочная система, Китай pvd-композитная тонкая пленочная система производители, поставщики, завод, физическое осаждение пары тонкопленочное оборудование, Плазменное тонкопленочное оборудование, Оборудование для обнаружения дефектов с тонкой пленкой, Тонкое пленочное оборудование для применений для производства устройств блокчейна, Тонкое пленочное оборудование для применений металлизации, Тонкое пленочное оборудование для датчиков и приводов. Производственные применения

Отправить запрос
Связаться с намиесли у вас есть вопросы

Вы можете связаться с нами по телефону, электронной почте или онлайн-форме ниже. Наш специалист свяжется с вами в ближайшее время.

Свяжитесь сейчас!