Обзор продукта

 

Оборудование для нанесения тонких пленок композитных материалов PVD — это промышленная платформа для вакуумного осаждения, разработанная для нанесения тонких многослойных, сплавных и нанокомпозитных пленок. Интегрируя источники магнетронного распыления и катодной дуги в одной вакуумной камере, система обеспечивает точный контроль микроструктуры пленки, остаточного напряжения и межфазной адгезии. Платформа, созданная для непрерывного производства и передовых исследований и разработок, подходит для металлических, керамических и полимерных подложек с масштабируемой геометрией камер.

 
 
Технические характеристики

 

Параметр

Диапазон спецификации

Предельное вакуумное давление

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Cryogenic/Turbomolecular pumping suite)

Рабочее давление

0,1 Па - 5.0 Па

Температура подложки

Температура окружающей среды до 800 градусов (замкнутый-ПИД-регулирование)

Источники осаждения

Конфигурируемые: магнетронное распыление постоянным/частотным током, импульсное постоянное напряжение, катодная дуга с фильтрацией.

Однородность толщины

< +/- 3% across standard 300 mm substrate carrier

Материал камеры

Нержавеющая сталь 304L/316L, механическая шлифовка и электро-полировка (Ra<= 0.4 um)

Интеграция источника питания

Генераторы СЧ (10–100 кГц), Генераторы ВЧ (13,56 МГц), Импульсное смещение постоянного тока

Система управления

Промышленный ПЛК + IPC с автоматическим выполнением рецептов, контролем блокировки и регистрацией данных партии.

 

Процесс осаждения композита

В системе используется гибридная архитектура физического осаждения из паровой фазы, сочетающая технологии магнетронного распыления и катодно-дуговой технологии.

Синергия нескольких-источников:

Одновременная или последовательная работа нескольких катодов позволяет осуществлять резкие или плавные переходы состава в стопке пленки.

 

Ионное травление. Предварительная-очистка:

Этапы плазменной очистки РЧ или постоянным током удаляют собственные оксиды и поверхностные загрязнения перед осаждением, чтобы обеспечить максимальную адгезию покрытия-к-подложке.

Реактивный контроль осаждения:

Оптическая эмиссионная спектроскопия с замкнутым-контуром (OES) регулирует впрыск реактивного газа (O2, N2, C2H2) для поддержания стабильной стехиометрии соединений и предотвращения отравления мишени.

Смещение подложки:

Источники питания с синхронизированным импульсным смещением бомбардируют растущую пленку ионами высокой-энергии, уплотняя микроструктуру и корректируя остаточное сжимающее напряжение.

 

Киноматериалы

Оборудование поддерживает широкий спектр целевых материалов для индивидуальных функциональных требований:

PVD Hybrid Thin Film Deposition System

Нитриды и карбиды переходных металлов:

TiN, TiAlN, CrN, ZrN, TiCN для устойчивости к износу и коррозии.

 

 
PVD Composite Deposition Equipment

Нанокомпозитные и многослойные системы:

TiSiN, AlTiSiN, нанослои металла/керамики, обеспечивающие чрезвычайную твердость и высоко-термическую стабильность.

 
PVD Composite Thin Film System

Прозрачные проводящие оксиды (TCO):

ITO, AZO, IGZO для оптоэлектронных и фотогальванических применений.

 
PVD Composite Thin Film Equipment

Чистые металлы и сплавы:

Ti, Cr, Al, Cu, нержавеющая сталь, NiCr для слоев электрического контакта и диффузии.

 
Приложения
 
 
 

Прецизионные режущие инструменты:

Нанесение сверх-твердых покрытий с низким-фрикционным трением (например, TiAlN) на твердосплавные пластины, сверла и концевые-фрезы для продления срока службы при высоких термических нагрузках.

 
 

Автомобильные компоненты:

Пленки, -снижающие трение и износостойкие-, на поршневых кольцах, деталях системы впрыска топлива и узлах шестерен.

 
 

Оптоэлектроника и дисплеи:

Проводящие оксидные слои с низким-удельным сопротивлением и высоким-высоким коэффициентом пропускания для сенсорных панелей и подложек солнечных батарей.

 
 

Медицинские приборы:

Биосовместимые и износостойкие-покрытия хирургических инструментов и ортопедических имплантатов.

 

 

Кастомизация и конфигурация системы

Инженерные конфигурации адаптируются к конкретным ограничениям производственного объекта и технологическим рецептам:

Размер камеры:

Варианты цилиндрических или прямоугольных камер: от систем периодического действия для исследований и разработок (диаметр 500 мм) до крупномасштабных -производственных-запорных систем (более 1000 мм).

01

Выбор набора для сцеживания:

Подбор воздуходувок Рута, турбомолекулярных и криогенных насосов с учетом требуемого времени простоя насоса-и профиля газовой нагрузки.

02

Крепление подложки:

Настраиваемые ступени планетарного вращения, 3-осевое вращение сателлитов или модули рулонного-роллинга, предназначенные для сложной трехмерной геометрии или непрерывных полотен.

03

Уровень автоматизации:

Полу-конфигурации с ручной загрузкой или полностью автоматизированные системы вакуумной транспортировки с роботизированной обработкой подложек.

04

 

Производство и контроль качества
 

Обнаружение утечек:

Каждая вакуумная камера подвергается тестированию на герметичность гелиевого масс-спектрометра с порогом < 1 x 10^-10 Па * м^3/с.

Проверка сварных швов:

Боковые сварные швы в вакууме-свариваются TIG, шлифуются и полируются с последующей рентгенологической-проверкой или капиллярной дефектоскопией по запросу.

Соответствие требованиям электробезопасности и безопасности:

Панели управления, изготовленные в соответствии со стандартами NFPA 79 или CE/IEC, оснащены аппаратными блокировками по расходу воды, давлению газа и электробезопасности.

Заводские приемочные испытания (FAT):

Пред-испытания перед отправкой включают 72-непрерывные-циклические испытания в сухом режиме, проверку производительности вакуума и пробное нанесение покрытия по рецептам, указанным клиентом.

 

 

Установка и техническая поддержка

Рекомендации по подготовке места:В документе с комплексными требованиями к объекту подробно описаны интерфейсы инженерных сетей (расход/давление охлаждающей воды, электрическая нагрузка, сжатый воздух, выхлопные газы).


При-вводе в эксплуатацию объекта:Инженеры по обслуживанию на местах выполняют механическую центровку, проверку герметичности вакуума, электрическое подключение-и первоначальную калибровку.


Настройка рецепта процесса:Сотрудничество на-площадке с металлургами и инженерами-технологами клиента для фиксации целевых параметров толщины пленки, напряжения и твердости.


Поддержка жизненного цикла:Интерфейс удаленной диагностики, локализованный запас запасных частей и программы планового профилактического обслуживания.

PVD Composite Vacuum Deposition Equipment

 

 

Часто задаваемые вопросы

 

 

Вопрос: Каково типичное время откачки-для достижения базового давления?

A: При использовании стандартных конфигураций высокого-вакуума (турбомолекулярные или криогенные насосы в сочетании с форвакуумными/роторными насосами) камера откачивается из атмосферы до давления < 5,0 x 10^-4 Па в течение 25–40 минут, в зависимости от объема камеры и нагрузки по выделению влаги.

Вопрос: Может ли система автоматически переключаться между реактивным и не-реактивным режимами распыления?

А: Да. Программное обеспечение управления ПЛК динамически управляет контроллерами массового расхода (MFC) и выходами источника питания, обеспечивая автоматический переход от осаждения металлов к образованию реактивных соединений в рамках одного технологического цикла.

Вопрос: Какую геометрию подложки поддерживает стандартная платформа планетарного вращения?

Ответ: Стандартное 3-осевое планетарное приспособление предназначено для обработки сложных 3D-компонентов, таких как режущие инструменты и автомобильные клапаны. Специальные приспособления могут быть разработаны для плоских подложек размером до 400 x 400 мм или цилиндрических рулонов.

Вопрос: Как обеспечить однородность толщины пленки при больших партиях?

О: Однородность достигается за счет оптимизации расстояния между катодом-и-подложкой, моделирования профиля локализованного магнитного поля и много-осевого вращения планет. Фактическая однородность проверяется путем тестирования свидетельских образцов во время FAT.

Вопрос: Каковы требования к коммунальным предприятиям для стандартной промышленной установки?

A: Обычно требуется трехфазное напряжение 380 В/480 В (50/60 Гц), подача охлажденной охлаждающей воды (приблизительно от 15 до 20 градусов при давлении от 3 до 4 бар), сжатый воздух (6 бар) для пневматических клапанов и чистый сухой воздух или азот для вентиляции. Точные нагрузки зависят от конфигурации источника питания.

Мы хорошо-известны как один из ведущих производителей и поставщиков оборудования для производства пленок из композитных пвд-пленок в Китае. Если вы собираетесь купить оборудование для изготовления тонких пленок из композитных пвд-пленок по индивидуальному заказу, произведенное в Китае, добро пожаловать на прайс-лист на нашем заводе. Для консультации по цене свяжитесь с нами.

Отправить запрос
Связаться с намиесли у вас есть вопросы

Вы можете связаться с нами по телефону, электронной почте или онлайн-форме ниже. Наш специалист свяжется с вами в ближайшее время.

Свяжитесь сейчас!