Система высоковакуумного электронно-лучевого испарения серии EBE-наносит тонкие пленки высокой-чистоты для оптических, полупроводниковых и металлургических применений. Направляя магнитно-фокусированный электронный луч на исходные материалы внутри вакуумной камеры, система достигает локализованного нагрева и быстрого испарения. Этот метод предотвращает загрязнение тигля и эффективно обрабатывает тугоплавкие металлы и диэлектрики высокой-чистоты.
Камера из нержавеющей стали оснащена крионасосами или турбомолекулярными насосами, обеспечивающими базовое давление ниже 5 x 10^-5 Па, чтобы минимизировать попадание остаточного газа во время роста пленки.
Технические характеристики
|
Параметр |
Спецификация |
|
Предельное вакуумное давление |
< 5 x 10^-5 Pa (after 4-hour bake-out) |
|
Время простоя-откачки |
< 15 min to 1 x 10^-3 Pa (empty, clean chamber) |
|
E-Номинальная мощность пистолета |
От 6 кВт до 15 кВт (частота развертки до 100 Гц) |
|
E-Конфигурация пистолета |
Индексируемый тигель с 4 или 6 карманами (от 10 до 40 куб.см) |
|
Размер держателя подложки |
Подходит для подложек диаметром до 200 мм или нестандартных несущих пластин. |
|
Скорость вращения подложки |
От 0 до 30 об/мин (переменная скорость с регулируемым наклоном) |
|
Равномерность толщины пленки |
От +/- 1% до +/- 2% по радиусу 100 мм (планетарное приспособление) |
|
Материал камеры |
Нержавеющая сталь 304L (внутренняя электрополированная поверхность, Ra < 0,2 мкм) |
Ключевые особенности
Прямое электро-лучевое отопление:Обходит ограничения резистивной лодки; плавит материалы с высокой-точкой-плавления, включая вольфрам, платину и оксид алюминия.
Программируемая развертка луча:Двухосные-электромагнитные катушки распределяют луч по поверхности испаряющегося материала, предотвращая образование кратеров и обеспечивая равномерный расход материала.
Многоточечное-индексирование:Медные тигли с водяным-охлаждением позволяют осуществлять последовательное много-осаждение слоев без нарушения вакуума.
Мониторинг скорости QCM:Двойные кварцевые датчики контролируют скорость осаждения и толщину пленки, подключаясь напрямую к ПЛК/ПИД-регулятору.
Архитектура безопасности:Аппаратные блокировки защищают от сбоя охлаждающей воды, высокого давления в камере и утечки через дверное уплотнение.
Конфигурация вакуумной системы
Черновая стадия:Двухступенчатый-роторно-лопастной насос в сочетании с нагнетателем Рута обеспечивает быструю черновую обработку до 10 Па.
Стадия высокого вакуума:Турбо-молекулярный насос (от 1200 до 2200 л/с), соединенный с гелиевым криогенным насосом с замкнутым-контуром, изолированным пневматическими задвижками.
Мониторинг давления:Полный-диапазон датчиков Пирани/холодного катода отслеживает давление в камере от атмосферы до сверх-высокого вакуума.
Диагностика:Фланцевые порты KF и CF подходят для гелиевых течеискателей.
Пленочные материалы и подложки
Поддерживаемые испаряющиеся материалы
Металлы: Ti, Cr, Al, Au, Ag, Pt, Ni, Cu, Ta, W, Mo.
Диэлектрики: SiO2, TiO2, Ta2O5, Al2O3, ZrO2, HfO2.
Совместимые субстраты
Монокристаллические кремниевые пластины-(диаметром от 100 мм до 300 мм)
Оптическое стекло, плавленый кварц и кварц.
Керамика из глинозема (Al2O3) и нитрида алюминия (AlN)
Гибкая металлическая фольга и полиимидные пленки (через рулонные--модули)
Приложения
Производство полупроводников:Металлические затворные контакты, диффузионные барьерные слои и омические контакты (Ti/Pt/Au, Cr/Au).
Оптические интерференционные фильтры:Многослойные-покрытия для лазерных зеркал, полосовых фильтров и просветляющих линз-с использованием чередующихся диэлектрических оксидов.
Фотоэлектрические исследования и разработки:Тонкие-пленочные слои для перовскитных и солнечных элементов CIGS.
Функциональные покрытия:Защитные слои оксида металла для аэрокосмической техники и компонентов датчиков.
Кастомизация
Геометрия камеры:Вертикальные или горизонтальные цилиндрические камеры, масштабированные для больших плоских панелей или трехмерных деталей.
Модификация субстрата:Смещение постоянного/радиочастотного тока для ионно--осаждения (IAD) и нагревателей подложек, рассчитанных на температуру до 600 градусов Цельсия.
Загрузите-интеграцию блокировки:Одинарные- или двойные-загрузочные-камеры для загрузки пластин для уменьшения количества циклов откачки-при работе с высокой-пропускной способностью.
Интеграция управления:Индивидуальные сценарии ПЛК/SCADA, поддерживающие автоматизацию рецептов, регистрацию данных и связь SECS/GEM.
Контроль качества
Испытание на утечку гелиевого масс-спектрометра:Перед заводской приемкой камеры прошли испытания на пороговые значения ниже 1 x 10^-9 Па*м^3/с.
Проверка электробезопасности:Испытания на сопротивление изоляции высокого-напряжения, целостность заземления и блокировку выполняются в соответствии со стандартами CE/IEC.
Проверка размеров:Проверка на координатно-измерительной машине (КИМ) уплотнительных поверхностей и соосности фланцев.
Заводские приемочные испытания (FAT):72-часовой непрерывный сухой пробег вакуумных насосов, узлов движения и силовых агрегатов с полными отчетами о данных.
Установка и техническая поддержка
При-вводе в эксплуатацию объекта:Инженеры управляют выравниванием камеры, подключением инженерных сетей (вода, электроэнергия, газ, выхлопные газы) и первоначальной вакуумной прокачкой-.
Калибровка процесса:Техническая поддержка устанавливает базовые скорости осаждения и калибровочные кривые толщины пленки во время приемочных испытаний на месте (SAT).
Отправка запасных частей:Важные быстроизнашивающиеся детали-волокна, тигли, кристаллы QCM и вакуумные уплотнения-хранятся на местном складе.
Удаленная диагностика:Модули безопасной диагностики позволяют-извлекать журналы ПЛК в реальном времени для быстрого устранения неполадок.
Часто задаваемые вопросы
Вопрос: Какова максимальная однородность толщины подложки шириной 200 мм?
A: Однородность толщины сохраняется в пределах +/- 1.5% на площади диаметром 200 мм при использовании приспособления планетарного вращения.
Вопрос: Может ли система обрабатывать процессы реактивного испарения?
А: Да. Встроенные контроллеры массового расхода (MFC) впрыскивают кислород, азот или аргон для формирования реактивной оксидной и нитридной пленки.
Вопрос. Какие требования к коммунальным услугам необходимо подготовить на-объекте?
A: The system requires a dedicated 3-phase power supply (380V/480V, 50/60 Hz), chilled water (>40 л/мин, 20 +/- 2 градус Цельсия), сжатый воздух (от 0,4 до 0,6 МПа) и выхлопная линия форвакуумного насоса.
Вопрос: Каковы типичные сроки выполнения заказов?
О: Стандартные конфигурации будут доставлены через 12–16 недель. Нестандартным системам с загрузочными шлюзами или специализированными камерами требуется от 20 до 26 недель с момента утверждения чертежа до FAT.
горячая этикетка : оборудование для высоковакуумного электронно-лучевого испарения, Китай оборудование для высоковакуумного электронно-лучевого испарения производители, поставщики, завод, физическое осаждение пары тонкопленочное оборудование, Плазменное тонкопленочное оборудование, Оборудование для обнаружения дефектов с тонкой пленкой, Тонкое пленочное оборудование для применений для производства устройств блокчейна, Тонкое пленочное оборудование для применений металлизации, Тонкое пленочное оборудование для датчиков и приводов. Производственные применения

