Оборудование для высоковакуумного электронно-лучевого испарения

Оборудование для высоковакуумного электронно-лучевого испарения

Детали
Система высоковакуумного электронно-лучевого испарения серии EBE-наносит тонкие пленки высокой-чистоты для оптических, полупроводниковых и металлургических применений. Направляя магнитно-фокусированный электронный луч на исходные материалы внутри вакуумной камеры, система достигает локализованного нагрева и быстрого испарения. Этот метод предотвращает загрязнение тигля и эффективно обрабатывает тугоплавкие металлы и диэлектрики высокой-чистоты.
Категория
Оборудование для электронно-лучевого испарения тонких пленок
 
Отправить запрос
Описание
Технические параметры

Система высоковакуумного электронно-лучевого испарения серии EBE-наносит тонкие пленки высокой-чистоты для оптических, полупроводниковых и металлургических применений. Направляя магнитно-фокусированный электронный луч на исходные материалы внутри вакуумной камеры, система достигает локализованного нагрева и быстрого испарения. Этот метод предотвращает загрязнение тигля и эффективно обрабатывает тугоплавкие металлы и диэлектрики высокой-чистоты.


Камера из нержавеющей стали оснащена крионасосами или турбомолекулярными насосами, обеспечивающими базовое давление ниже 5 x 10^-5 Па, чтобы минимизировать попадание остаточного газа во время роста пленки.

 

Технические характеристики

 

Параметр

Спецификация

Предельное вакуумное давление

< 5 x 10^-5 Pa (after 4-hour bake-out)

Время простоя-откачки

< 15 min to 1 x 10^-3 Pa (empty, clean chamber)

E-Номинальная мощность пистолета

От 6 кВт до 15 кВт (частота развертки до 100 Гц)

E-Конфигурация пистолета

Индексируемый тигель с 4 или 6 карманами (от 10 до 40 куб.см)

Размер держателя подложки

Подходит для подложек диаметром до 200 мм или нестандартных несущих пластин.

Скорость вращения подложки

От 0 до 30 об/мин (переменная скорость с регулируемым наклоном)

Равномерность толщины пленки

От +/- 1% до +/- 2% по радиусу 100 мм (планетарное приспособление)

Материал камеры

Нержавеющая сталь 304L (внутренняя электрополированная поверхность, Ra < 0,2 мкм)

 

Ключевые особенности


Прямое электро-лучевое отопление:Обходит ограничения резистивной лодки; плавит материалы с высокой-точкой-плавления, включая вольфрам, платину и оксид алюминия.


Программируемая развертка луча:Двухосные-электромагнитные катушки распределяют луч по поверхности испаряющегося материала, предотвращая образование кратеров и обеспечивая равномерный расход материала.


Многоточечное-индексирование:Медные тигли с водяным-охлаждением позволяют осуществлять последовательное много-осаждение слоев без нарушения вакуума.


Мониторинг скорости QCM:Двойные кварцевые датчики контролируют скорость осаждения и толщину пленки, подключаясь напрямую к ПЛК/ПИД-регулятору.


Архитектура безопасности:Аппаратные блокировки защищают от сбоя охлаждающей воды, высокого давления в камере и утечки через дверное уплотнение.

 

Конфигурация вакуумной системы


Черновая стадия:Двухступенчатый-роторно-лопастной насос в сочетании с нагнетателем Рута обеспечивает быструю черновую обработку до 10 Па.


Стадия высокого вакуума:Турбо-молекулярный насос (от 1200 до 2200 л/с), соединенный с гелиевым криогенным насосом с замкнутым-контуром, изолированным пневматическими задвижками.


Мониторинг давления:Полный-диапазон датчиков Пирани/холодного катода отслеживает давление в камере от атмосферы до сверх-высокого вакуума.


Диагностика:Фланцевые порты KF и CF подходят для гелиевых течеискателей.

 

Пленочные материалы и подложки

 

Поддерживаемые испаряющиеся материалы

Металлы: Ti, Cr, Al, Au, Ag, Pt, Ni, Cu, Ta, W, Mo.
Диэлектрики: SiO2, TiO2, Ta2O5, Al2O3, ZrO2, HfO2.

 

Совместимые субстраты

Монокристаллические кремниевые пластины-(диаметром от 100 мм до 300 мм)
Оптическое стекло, плавленый кварц и кварц.
Керамика из глинозема (Al2O3) и нитрида алюминия (AlN)
Гибкая металлическая фольга и полиимидные пленки (через рулонные--модули)

Приложения


Производство полупроводников:Металлические затворные контакты, диффузионные барьерные слои и омические контакты (Ti/Pt/Au, Cr/Au).


Оптические интерференционные фильтры:Многослойные-покрытия для лазерных зеркал, полосовых фильтров и просветляющих линз-с использованием чередующихся диэлектрических оксидов.


Фотоэлектрические исследования и разработки:Тонкие-пленочные слои для перовскитных и солнечных элементов CIGS.


Функциональные покрытия:Защитные слои оксида металла для аэрокосмической техники и компонентов датчиков.

 

Кастомизация


Геометрия камеры:Вертикальные или горизонтальные цилиндрические камеры, масштабированные для больших плоских панелей или трехмерных деталей.


Модификация субстрата:Смещение постоянного/радиочастотного тока для ионно--осаждения (IAD) и нагревателей подложек, рассчитанных на температуру до 600 градусов Цельсия.


Загрузите-интеграцию блокировки:Одинарные- или двойные-загрузочные-камеры для загрузки пластин для уменьшения количества циклов откачки-при работе с высокой-пропускной способностью.


Интеграция управления:Индивидуальные сценарии ПЛК/SCADA, поддерживающие автоматизацию рецептов, регистрацию данных и связь SECS/GEM.

 

Контроль качества


Испытание на утечку гелиевого масс-спектрометра:Перед заводской приемкой камеры прошли испытания на пороговые значения ниже 1 x 10^-9 Па*м^3/с.


Проверка электробезопасности:Испытания на сопротивление изоляции высокого-напряжения, целостность заземления и блокировку выполняются в соответствии со стандартами CE/IEC.


Проверка размеров:Проверка на координатно-измерительной машине (КИМ) уплотнительных поверхностей и соосности фланцев.


Заводские приемочные испытания (FAT):72-часовой непрерывный сухой пробег вакуумных насосов, узлов движения и силовых агрегатов с полными отчетами о данных.

 

Установка и техническая поддержка


При-вводе в эксплуатацию объекта:Инженеры управляют выравниванием камеры, подключением инженерных сетей (вода, электроэнергия, газ, выхлопные газы) и первоначальной вакуумной прокачкой-.


Калибровка процесса:Техническая поддержка устанавливает базовые скорости осаждения и калибровочные кривые толщины пленки во время приемочных испытаний на месте (SAT).


Отправка запасных частей:Важные быстроизнашивающиеся детали-волокна, тигли, кристаллы QCM и вакуумные уплотнения-хранятся на местном складе.


Удаленная диагностика:Модули безопасной диагностики позволяют-извлекать журналы ПЛК в реальном времени для быстрого устранения неполадок.

 

Часто задаваемые вопросы

 

Вопрос: Какова максимальная однородность толщины подложки шириной 200 мм?

A: Однородность толщины сохраняется в пределах +/- 1.5% на площади диаметром 200 мм при использовании приспособления планетарного вращения.

Вопрос: Может ли система обрабатывать процессы реактивного испарения?

А: Да. Встроенные контроллеры массового расхода (MFC) впрыскивают кислород, азот или аргон для формирования реактивной оксидной и нитридной пленки.

Вопрос. Какие требования к коммунальным услугам необходимо подготовить на-объекте?

A: The system requires a dedicated 3-phase power supply (380V/480V, 50/60 Hz), chilled water (>40 л/мин, 20 +/- 2 градус Цельсия), сжатый воздух (от 0,4 до 0,6 МПа) и выхлопная линия форвакуумного насоса.

Вопрос: Каковы типичные сроки выполнения заказов?

О: Стандартные конфигурации будут доставлены через 12–16 недель. Нестандартным системам с загрузочными шлюзами или специализированными камерами требуется от 20 до 26 недель с момента утверждения чертежа до FAT.

 

горячая этикетка : оборудование для высоковакуумного электронно-лучевого испарения, Китай оборудование для высоковакуумного электронно-лучевого испарения производители, поставщики, завод, физическое осаждение пары тонкопленочное оборудование, Плазменное тонкопленочное оборудование, Оборудование для обнаружения дефектов с тонкой пленкой, Тонкое пленочное оборудование для применений для производства устройств блокчейна, Тонкое пленочное оборудование для применений металлизации, Тонкое пленочное оборудование для датчиков и приводов. Производственные применения

Отправить запрос
Связаться с намиесли у вас есть вопросы

Вы можете связаться с нами по телефону, электронной почте или онлайн-форме ниже. Наш специалист свяжется с вами в ближайшее время.

Свяжитесь сейчас!