Оборудование для ионного-вакуумного испарения

Оборудование для ионного-вакуумного испарения

Детали
Система ионного-вакуумного испарения объединяет источники термического или электронно-лучевого испарения в высоком-вакууме с источником ионов типа Кауфмана-или Энда-Холла. Бомбардируя растущую пленку ионизированным газом (Ar или O2) во время физического осаждения из паровой фазы (PVD), система передает кинетическую энергию адатомам, подавляя столбчатую микроструктуру и предотвращая поглощение влаги в тонких оптических и диэлектрических пленках.
Категория
Оборудование для ионного-тонкопленочного испарения
 
Отправить запрос
Описание
Технические параметры

Система ионного-вакуумного испарения объединяет источники термического или электронно-лучевого испарения в высоком-вакууме с источником ионов типа Кауфмана-или Энда-Холла. Бомбардируя растущую пленку ионизированным газом (Ar или O2) во время физического осаждения из паровой фазы (PVD), система передает кинетическую энергию адатомам, подавляя столбчатую микроструктуру и предотвращая поглощение влаги в тонких оптических и диэлектрических пленках.


Созданная для интеграции чистых помещений и непрерывного-производства в несколько смен, система масштабируется от исследовательских центров (камеры 300 мм) до высокопроизводительных-промышленных линий (900 мм с двумя-дверями и конфигурациями с планетарным вращением).

 

Технические характеристики

 

Категория параметра

Техническая спецификация

Размеры камеры

600 x 600 x 600 мм (настраивается до 1200 мм)

Материал камеры

Нержавеющая сталь 304L, внутренние поверхности электрополированы до Ra < 0,2 мкм.

Базовое давление

<= 5.0 x 10^-5 Pa (Achieved within 45 minutes from atmosphere)

Предельное давление

<= 8.0 x 10^-6 Pa

Источники испарения

Многократная-карманная электронно-лучевая пушка- (6 x 15 куб.см / 4 x 40 куб.см) и резистивные источники тепла

Источник ионов

Конец-Холла/Бесрешеточный источник ионов (напряжение луча: 50–300 В, ионный ток: 0–500 мА)

Подложка Крепление

Планетарный механизм вращения (0-20 об/мин) с дополнительным нагревом (от комнатной температуры до 350 градусов C)

Контроль толщины пленки

Кварцево-кристаллические микровесы (QCM) с двойной сенсорной головкой и ПИД-регулятором с замкнутым-контуром

 

Ключевые особенности


Около-объемной плотности:Повышенная подвижность поверхности адатомов устраняет видимую пористость пленки и максимизирует механическую твердость.


Внутренняя настройка стресса:Регулируемая энергия ионного пучка нейтрализует механическое напряжение, предотвращая расслоение толстых диэлектрических пакетов.


Обработка с низким-тепловым-бюджетом:Уплотнение, управляемое-импульсом, позволяет создавать высокоэффективные-покрытия на термочувствительных-полимерных подложках без термической деформации.


Автоматизация рецептов:ПЛК-контролирует вакуумные блокировки и последовательность откачки-, управляемую с помощью промышленного сенсорного-ИЧМ-панели с регистрацией данных.

 

Конфигурация вакуумной системы


Черновая стадия:Двухступенчатый пластинчато-роторный механический насос в сочетании с нагнетателем Рута (скорость 150 л/с) для быстрого перекачивания.


Стадия высокого вакуума:Турбомолекулярный насос на магнитной подвеске (1600 л/с) с безмасляным-сухим спиральным насосом для устранения обратного потока углеводородов.


Криогенный вариант:Интеграция холодной ловушки жидкого азота и крионасоса для низкого парциального давления паров воды-.


Измерение вакуума:Перекрестные-калиброванные датчики Пирани и холодного катода для получения обратной связи-от атмосферы в реальном времени до давления 10^-7 Па.

 

Совместимость материалов для испарения и подложек


Испарительные материалы
Оксиды:
SiO2, TiO2, Ta2O5, Nb2O5, Al2O3


Фториды:МгФ2, ЛаФ3


Металлы:Al, Ag, Au, Ti, Cr


Совместимость с субстратом
Оптические подложки:
Окна из плавленого кварца, N-BK7, кремния, германия и селенида цинка.


Полупроводниковые пластины:Кремниевые и составные полупроводниковые пластины диаметром от 100 до 300 мм.


Полимеры:Пленки ПЭТ, ПИ (полиимид) и ПММА с использованием низкотемпературных параметров IAD.

 

Приложения


Прецизионная оптика:Анти-антиотражающие (AR) покрытия, лазерные зеркала и узкополосные фильтры, требующие влагостойкости.


Микроэлектроника:Металлические затворные электроды, адгезивные слои и пассивационные барьеры в полупроводниковой упаковке.


Оптоэлектроника:Контакты из прозрачного проводящего оксида (TCO) и влагонепроницаемые герметизирующие слои OLED.

 

Параметры настройки


Геометрия камеры:Прямоугольные или цилиндрические конструкции, адаптированные к ограничениям стен чистых помещений.


Интеграция с несколькими-источниками:Установки со-испарения, вмещающие до трех электронно-лучевых пушек и четырех тепловых лодочек.


Метрологические порты-на месте:Фланцевые интеграционные порты для спектроскопических эллипсометров или систем оптического мониторинга.


Уровень автоматизации:Полу-автоматическое исследовательское создание или полностью автоматизированная обработка-кассетных-подложек.

 

Протоколы контроля качества и тестирования


Обнаружение утечек:Тестирование гелиевого масс-спектрометра в каждой камере со строгим порогом отклонения < 1 x 10^-9 Па*м^3/с.


Проверка чистоты:Анализатор остаточных газов (RGA) выполнил сканирование перед-отгрузкой, чтобы убедиться в отсутствии органических углеводородов.


Запись системы-Время:72-непрерывные испытания механических приводов, охлаждающих коллекторов и электрических блокировок всухую.


Документация:Сертификаты заводских испытаний материалов (MTR), электрические схемы и отчеты о заводских приемочных испытаниях (FAT).

 

Установка и техническая поддержка


Подготовка места:Detailed facility guide covering floor loading, chilled water (>= 5 м^3/ч), чистый сухой воздух (CDA) и выхлопные газы.


Ввод в эксплуатацию:Развертывание выездного обслуживания для механического выравнивания, подключения к инженерным сетям, вакуумной калибровки и утверждения рецептов-.


Обучение операторов:5-дневная программа с выездом на объект, охватывающая эксплуатацию, профилактическое обслуживание, устранение неполадок и защитные блокировки.


Запчасти:Предметы критического износа (нити, кристаллы QCM, уплотнения, турбомолекулярные подшипники), хранящиеся на региональном складе.

 

Часто задаваемые вопросы

 

Вопрос: Как IAD предотвращает дрейф показателя преломления?

Ответ: Ионная бомбардировка вытесняет захваченные остаточные газы и уплотняет рост пленки почти до-объемной плотности. Это останавливает конденсацию влаги из окружающей среды при вентиляции атмосферы, обеспечивая нулевой сдвиг центральной-длины волны с течением времени.

Вопрос: Каков интервал технического обслуживания решеток и нитей источника ионов?

Ответ: Конец-Источники ионов Холла работают в течение 150-200 рабочих часов в зависимости от химически активных газов. Быстроразъемные зажимы позволяют заменить компоненты менее чем за 30 минут.

Вопрос: Может ли система обрабатывать реактивные процессы, такие как TiO2?

А: Да. Специальные высокоточные-контроллеры массового расхода (MFC) вводят кислород или азот непосредственно в камеру и источник ионов, обеспечивая полную стехиометрию и исключая абсорбцию суб-оксидов.

 

горячая этикетка : Оборудование для вакуумного испарения с ионным-выпариванием, Китай Оборудование для вакуумного испарения с ионным-выпариванием, производители, поставщики, завод

Отправить запрос
Связаться с намиесли у вас есть вопросы

Вы можете связаться с нами по телефону, электронной почте или онлайн-форме ниже. Наш специалист свяжется с вами в ближайшее время.

Свяжитесь сейчас!