Система ионного-вакуумного испарения объединяет источники термического или электронно-лучевого испарения в высоком-вакууме с источником ионов типа Кауфмана-или Энда-Холла. Бомбардируя растущую пленку ионизированным газом (Ar или O2) во время физического осаждения из паровой фазы (PVD), система передает кинетическую энергию адатомам, подавляя столбчатую микроструктуру и предотвращая поглощение влаги в тонких оптических и диэлектрических пленках.
Созданная для интеграции чистых помещений и непрерывного-производства в несколько смен, система масштабируется от исследовательских центров (камеры 300 мм) до высокопроизводительных-промышленных линий (900 мм с двумя-дверями и конфигурациями с планетарным вращением).
Технические характеристики
|
Категория параметра |
Техническая спецификация |
|
Размеры камеры |
600 x 600 x 600 мм (настраивается до 1200 мм) |
|
Материал камеры |
Нержавеющая сталь 304L, внутренние поверхности электрополированы до Ra < 0,2 мкм. |
|
Базовое давление |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (Achieved within 45 minutes from atmosphere) |
|
Предельное давление |
<= 8.0 x 10^-6 Pa |
|
Источники испарения |
Многократная-карманная электронно-лучевая пушка- (6 x 15 куб.см / 4 x 40 куб.см) и резистивные источники тепла |
|
Источник ионов |
Конец-Холла/Бесрешеточный источник ионов (напряжение луча: 50–300 В, ионный ток: 0–500 мА) |
|
Подложка Крепление |
Планетарный механизм вращения (0-20 об/мин) с дополнительным нагревом (от комнатной температуры до 350 градусов C) |
|
Контроль толщины пленки |
Кварцево-кристаллические микровесы (QCM) с двойной сенсорной головкой и ПИД-регулятором с замкнутым-контуром |
Ключевые особенности
Около-объемной плотности:Повышенная подвижность поверхности адатомов устраняет видимую пористость пленки и максимизирует механическую твердость.
Внутренняя настройка стресса:Регулируемая энергия ионного пучка нейтрализует механическое напряжение, предотвращая расслоение толстых диэлектрических пакетов.
Обработка с низким-тепловым-бюджетом:Уплотнение, управляемое-импульсом, позволяет создавать высокоэффективные-покрытия на термочувствительных-полимерных подложках без термической деформации.
Автоматизация рецептов:ПЛК-контролирует вакуумные блокировки и последовательность откачки-, управляемую с помощью промышленного сенсорного-ИЧМ-панели с регистрацией данных.
Конфигурация вакуумной системы
Черновая стадия:Двухступенчатый пластинчато-роторный механический насос в сочетании с нагнетателем Рута (скорость 150 л/с) для быстрого перекачивания.
Стадия высокого вакуума:Турбомолекулярный насос на магнитной подвеске (1600 л/с) с безмасляным-сухим спиральным насосом для устранения обратного потока углеводородов.
Криогенный вариант:Интеграция холодной ловушки жидкого азота и крионасоса для низкого парциального давления паров воды-.
Измерение вакуума:Перекрестные-калиброванные датчики Пирани и холодного катода для получения обратной связи-от атмосферы в реальном времени до давления 10^-7 Па.
Совместимость материалов для испарения и подложек
Испарительные материалы
Оксиды:SiO2, TiO2, Ta2O5, Nb2O5, Al2O3
Фториды:МгФ2, ЛаФ3
Металлы:Al, Ag, Au, Ti, Cr
Совместимость с субстратом
Оптические подложки:Окна из плавленого кварца, N-BK7, кремния, германия и селенида цинка.
Полупроводниковые пластины:Кремниевые и составные полупроводниковые пластины диаметром от 100 до 300 мм.
Полимеры:Пленки ПЭТ, ПИ (полиимид) и ПММА с использованием низкотемпературных параметров IAD.
Приложения
Прецизионная оптика:Анти-антиотражающие (AR) покрытия, лазерные зеркала и узкополосные фильтры, требующие влагостойкости.
Микроэлектроника:Металлические затворные электроды, адгезивные слои и пассивационные барьеры в полупроводниковой упаковке.
Оптоэлектроника:Контакты из прозрачного проводящего оксида (TCO) и влагонепроницаемые герметизирующие слои OLED.
Параметры настройки
Геометрия камеры:Прямоугольные или цилиндрические конструкции, адаптированные к ограничениям стен чистых помещений.
Интеграция с несколькими-источниками:Установки со-испарения, вмещающие до трех электронно-лучевых пушек и четырех тепловых лодочек.
Метрологические порты-на месте:Фланцевые интеграционные порты для спектроскопических эллипсометров или систем оптического мониторинга.
Уровень автоматизации:Полу-автоматическое исследовательское создание или полностью автоматизированная обработка-кассетных-подложек.
Протоколы контроля качества и тестирования
Обнаружение утечек:Тестирование гелиевого масс-спектрометра в каждой камере со строгим порогом отклонения < 1 x 10^-9 Па*м^3/с.
Проверка чистоты:Анализатор остаточных газов (RGA) выполнил сканирование перед-отгрузкой, чтобы убедиться в отсутствии органических углеводородов.
Запись системы-Время:72-непрерывные испытания механических приводов, охлаждающих коллекторов и электрических блокировок всухую.
Документация:Сертификаты заводских испытаний материалов (MTR), электрические схемы и отчеты о заводских приемочных испытаниях (FAT).
Установка и техническая поддержка
Подготовка места:Detailed facility guide covering floor loading, chilled water (>= 5 м^3/ч), чистый сухой воздух (CDA) и выхлопные газы.
Ввод в эксплуатацию:Развертывание выездного обслуживания для механического выравнивания, подключения к инженерным сетям, вакуумной калибровки и утверждения рецептов-.
Обучение операторов:5-дневная программа с выездом на объект, охватывающая эксплуатацию, профилактическое обслуживание, устранение неполадок и защитные блокировки.
Запчасти:Предметы критического износа (нити, кристаллы QCM, уплотнения, турбомолекулярные подшипники), хранящиеся на региональном складе.
Часто задаваемые вопросы
Вопрос: Как IAD предотвращает дрейф показателя преломления?
Ответ: Ионная бомбардировка вытесняет захваченные остаточные газы и уплотняет рост пленки почти до-объемной плотности. Это останавливает конденсацию влаги из окружающей среды при вентиляции атмосферы, обеспечивая нулевой сдвиг центральной-длины волны с течением времени.
Вопрос: Каков интервал технического обслуживания решеток и нитей источника ионов?
Ответ: Конец-Источники ионов Холла работают в течение 150-200 рабочих часов в зависимости от химически активных газов. Быстроразъемные зажимы позволяют заменить компоненты менее чем за 30 минут.
Вопрос: Может ли система обрабатывать реактивные процессы, такие как TiO2?
А: Да. Специальные высокоточные-контроллеры массового расхода (MFC) вводят кислород или азот непосредственно в камеру и источник ионов, обеспечивая полную стехиометрию и исключая абсорбцию суб-оксидов.
горячая этикетка : Оборудование для вакуумного испарения с ионным-выпариванием, Китай Оборудование для вакуумного испарения с ионным-выпариванием, производители, поставщики, завод

