Система IBAE сочетает в себе электронно--лучевое или термическое испарение со встроенным широко-источником ионов. Одновременная ионная бомбардировка во время роста пленки передает кинетическую энергию конденсирующимся адатомам, устраняя столбчатые микроструктуры и создавая тонкие пленки с -объемной-плотностью и минимальным спектральным сдвигом, вызванным влажностью-.
Технические характеристики
|
Параметр |
Спецификация |
|
Базовое давление |
<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes) |
|
Рабочее давление |
От 1,0 x 10^(-1) до 1,0 x 10^(-2) Па |
|
Тип источника ионов |
Конец без сетки-Холл/Источник ионов Кауфмана |
|
Энергия ионного луча |
от 50 до 1500 эВ (стабилизированный по замкнутому-контуру) |
|
Плотность тока ионного пучка |
от 0 до 2,5 мА/см^2 |
|
Источники испарения |
Много-карманная электро-лучевая пушка (от 4 x 15 куб.см до 6 x 40 куб.см) / Лодки Сопротивления |
|
Держатель подложки |
Планетарное вращающееся приспособление с нагревом до 300 град.С. |
|
Однородность толщины |
<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter |
|
Система управления |
ПЛК Siemens S7-1500 + промышленный ПК (контроллер осаждения Inficon) |
Ключевые особенности
Двойной-режим бомбардировки:Перенос кинетической энергии уплотняет пленки при низких температурах подложки, защищая деликатную оптику и полимерные подложки.
Замкнутый-контур ионной стабилизации:Встроенные контроллеры массового расхода поддерживают постоянный поток ионов на протяжении длительного производственного цикла, гарантируя постоянство партии.
Модульная вакуумная камера:Конструкция из нержавеющей стали 304L с электро-полированной внутренней частью (Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.
Автоматизированное секвенирование:Циклы откачки, осаждения и вентиляции,-управляемые ПЛК,-сводят к минимуму эксплуатационные отклонения.
Конфигурация вакуумной системы
Черновые насосы:Безмасляные-сухие корни и пластинчато-роторные насосы.
Высоковакуумный насос:Турбомолекулярный насос на магнитной подвеске (1600 л/с).
Датчики:Комбинированные емкостные манометры Пирани, холодного катода и Баратрона.
Клапан:Пневматические задвижки и угловые клапаны с аппаратной защитной блокировкой.
Совместимость материалов для испарения и подложек
Оксиды:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, Al2O3
Фториды:МгФ2, ЛаФ3
Металлы:Au, Ag, Al, Ti, Cr
Субстраты:Плавленый кварц, BK7, пластины кремния, германий, селенид цинка (ZnSe) и термостойкий полиимид.
Приложения
Прецизионная оптика:Узкополосные фильтры и покрытия DWDM, требующие стабильной центральной длины волны.
Лазерная оптика:Отражатели с высоким-порогом-повреждения и просветляющие-покрытия.
Полупроводники и фотоника:Диэлектрические защитные слои, пассивация и оптические волноводы.
Солнечная энергия:Модификация интерфейса прозрачного проводящего оксида (TCO).
Кастомизация
Размер камеры:Масштабируемый диаметр от 600 мм до 1200 мм.
Исходный макет:До трех электронно-лучевых пушек и нескольких тепловых источников на платформу.
На-метрологии на месте:Широкополосный оптический мониторинг (BOM) или интеграция кварцевых микровесов (QCM).
Автоматизация:Роботизированные интерфейсы загрузки подложек, соответствующие стандартам SEMI.
Контроль качества
Обнаружение утечек:Тестирование гелиевого масс-спектрометра на камеру (чувствительность<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).
Поиск компонентов:Промышленные бренды первого уровня (Inficon, MKS, Edwards, Siemens).
Заводская приемка (FAT):72-часовой непрерывный пробный прогон и проверка покрытия, измерение показателя преломления и однородности перед отправкой.
Установка и техническая поддержка
Документация:Полный пакет на английском языке, включая электрические схемы, диаграммы P&ID и исходные коды ПЛК.
Выездные службы:Установка «под ключ», вакуумная калибровка и настройка рецептов инженерами по применению.
Удаленная диагностика:Модуль Secure VPN для устранения неполадок программного обеспечения и процессов.
Часто задаваемые вопросы
Вопрос: Как ионная помощь меняет показатель преломления оксида?
Ответ: Энергичная ионная бомбардировка вытесняет захваченные остаточные газы и уплотняет микроструктуру, сдвигая показатель преломления таких пленок, как Ta2O5 и TiO2, ближе к объемным значениям.
Вопрос: Каков типичный интервал технического обслуживания источника ионов?
О: Интервалы технического обслуживания составляют от 150 до 300 часов обработки, в зависимости от технологических газов и удельной мощности.
Вопрос: Может ли эта система управлять процессами с химически активными газами?
А: Да. Независимые контроллеры массового расхода вводят химически активные газы (O2, N2) непосредственно в зоны источника ионов и камеры, сблокированные с предохранительными реле давления.
горячая этикетка : оборудование для ионно-лучевого испарения, Китай оборудование для ионно-лучевого испарения производители, поставщики, завод
