Обзор продукта
Это оборудование для электронно-лучевого испарения тонких пленок предназначено для высокоточного-физического осаждения из паровой фазы (PVD). Используя сфокусированный-электронный луч высокой энергии для бомбардировки исходных материалов, система достигает высоких скоростей испарения металлов с высокой-точкой плавления-, оксидов и диэлектрических материалов.
Система, построенная на основе модульной вакуумной архитектуры, включает в себя несколько-карманных электронных пушек, настраиваемые крепления для подложек и усовершенствованные средства-мониторинга на месте. Он обслуживает научно-исследовательские лаборатории и высокопроизводительные производственные линии, требующие строгого контроля стехиометрии, адгезии и оптических характеристик пленки.
-
![Оборудование для высоковакуумного электронно-лучевого испарения]()
Оборудование для высоковакуумного электронно-лучевого исп...Система высоковакуумного электронно-лучевого испарения серии EBE-наносит тонкие пленки высокой-чистоты для оптических, полупроводниковых и металлургических применений. Направляя...Смотреть больше -
![Система электронно-лучевого осаждения тонких пленок]()
Система электронно-лучевого осаждения тонких пленокСистема электронно-лучевого осаждения тонких пленок обеспечивает направленную-обработку PVD высокой чистоты для передовых исследований и промышленного производства. Используя сфокусированный...Смотреть больше -
![Оборудование для электронно-лучевого вакуумного испарения]()
Оборудование для электронно-лучевого вакуумного испаренияЭта система электронно-лучевого вакуумного испарения осуществляет физическое осаждение из паровой фазы (PVD) тугоплавких-металлов, оксидов и диэлектриков. Направляя сфокусированный электронный луч...Смотреть больше -
![Оборудование для электронно-лучевого осаждения тонких пленок]()
Оборудование для электронно-лучевого осаждения тонких пленокВ этой промышленной системе электронно-лучевого осаждения используются магнитно-фокусированные электронные пушки (от 3 до 15 кВт) для направления потоков энергии высокой-плотности в медные поды с...Смотреть больше -
![Система тонкопленочного электронно-лучевого испарения]()
Система тонкопленочного электронно-лучевого испаренияСистема электронно-лучевого испарения серии EBE-предназначена для физического осаждения из паровой фазы (PVD) металлов с высокой-точкой плавления-, диэлектриков и оптических материалов. Используя...Смотреть больше -
![Оборудование для электронно-лучевого испарения тонких пленок]()
Оборудование для электронно-лучевого испарения тонких пленокСерия EBE-V600 — это промышленная-платформа физического осаждения из паровой фазы (PVD), предназначенная для точного тонкопленочного-покрытия оптических компонентов, полупроводниковых приборов и...Смотреть больше
Технические характеристики
|
Параметр |
Диапазон технических характеристик |
Примечания / Стандартная конфигурация |
|
Предельное базовое давление |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
Достигается с помощью криогенных или турбо-молекулярных насосных групп. |
|
Размеры камеры |
По индивидуальному заказу (внутренний диаметр от 500 мм до 1200 мм) |
Нержавеющая сталь 304L/316L, электро-полированная |
|
E-Номинальная мощность пистолета |
От 6 до 15 кВт (много-карманные генераторы) |
Программируемое отклонение луча и индексация нескольких-тиглей |
|
Скорость осаждения |
от 0,1 нм/с до 10 нм/с |
Управление в режиме реального времени-замкнутым-контуром с помощью кварцевого монитора |
|
Равномерность толщины пленки |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
Планетарное или куполообразное приспособление для подложки с регулируемой скоростью вращения. |
|
Температура подложки |
Температура окружающей среды до 800 градусов |
Интегрированное лучистое отопление с тепловой обратной связью PID |
Основные характеристики оборудования
Электронная пушка высокой-стабильности:
Имеет магнитное отклонение и многоточечную-фокусировку для предотвращения локального перегрева исходных материалов и исключения разбрызгивания во время реактивного испарения.
Модульная конструкция тигля:
Оснащен от 4 до 6-карманными индексируемыми подами, позволяющими выполнять многослойное осаждение без нарушения вакуума.
Усовершенствованная вакуумная блокировка:
Пневматические клапаны,-управляемые ПЛК, автоматизированная последовательность черновой обработки/высокого-вакуума, а также блокировки защищают от сбоев охлаждающей воды и аномалий электропитания.
Камера низкого-загрязнения:
Внутренняя защита выполнена из электро-полированной нержавеющей стали со съемными вкладышами для быстрого уменьшения количества твердых частиц и упрощения технического обслуживания.
Пленочные материалы и подложки
Совместимые материалы для испарения
Металлы: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W.
Диэлектрики и оксиды: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO.
Типы подложек
Кремниевые пластины (от 2 до 12 дюймов)
Оптическое стекло, плавленый кварц и подложки из кварца
Гибкие полимерные пленки (полиимид, ПЭТ, рулонные--модули)
Керамические подложки (Al2O3, AlN)
Приложения
Оптические покрытия:
Анти-антиотражающие (AR) покрытия, узкополосные-фильтры и зеркала с высокой-отражательной способностью для лазерных и фотонных систем.
Полупроводниковые приборы:
Формирование омических контактов, металлизация затворов и обработка отрыва-для микроэлектроники.
Оптоэлектроника:
Прозрачные проводящие оксидные слои и тонкие пленки для OLED-дисплеев и фотоэлектрических элементов.
Передовые исследования и разработки:
Исследование тонких-пленочных магнитных слоев, сверхпроводящих пленок и много-слойных гетероструктур.
Кастомизация и конфигурация системы
Каждая тонкопленочная система настраивается в соответствии с конкретными технологическими рецептами и планировками объектов. Доступные инженерные адаптации включают в себя:
Выбор насосной установки:
Турбо-молекулярные насосы (TMP), крионасосы или масляно-диффузионные конфигурации, адаптированные к базовому вакууму и требованиям к производительности.
Загрузите-интеграцию блокировки:
Ручная загрузка-замков или автоматизированные многокамерные-кластерные системы для поддержания целостности сверх-высокого вакуума и увеличения пропускной способности пластин.
На-метрологии на месте:
Интеграционные порты для спектроскопических эллипсометров, оптических мониторов или анализаторов остаточных газов (RGA).
Программное обеспечение управления:
Собственный интерфейс ПЛК/ЧМИ с хранилищем рецептов, регистрацией данных и протоколами связи SECS/GEM для интеграции с интеллектуальным заводом.
Производство и контроль качества
Изготовление судна:
Все вакуумные камеры проходят проверку на герметичность гелиевым масс-спектрометром с порогом отбраковки < 1 × 10^-9 Па·м³/с.
Целостность сварного шва:
Сварка TIG выполняется в среде защитного газа с последующей пассивацией внутренней поверхности и механической полировкой для уменьшения газовыделения.
Заводские приемочные испытания (FAT):
72-часовой-непрерывный сухой-испытательный запуск с измерением кривых накачки, точности развертки электронного пистолета, времени срабатывания блокировки и термической стабильности перед упаковкой.
Соответствие и стандарты:
Изготовлено в соответствии с системой управления качеством, сертифицированной по стандарту ISO 9001, с системами, разработанными в соответствии с директивами CE и соответствующими рекомендациями SEMI (S2/S8) по безопасности и эргономике.
Часто задаваемые вопросы
Мы хорошо-известны как один из ведущих производителей и поставщиков оборудования для электронно-лучевого испарения тонких пленок в Китае. Если вы собираетесь купить изготовленное в Китае оборудование для электронно-лучевого испарения по индивидуальному заказу, добро пожаловать на получение прайс-листа на нашем заводе. Для консультации по цене свяжитесь с нами.
