Гибридная система осаждения тонких пленок PVD

Гибридная система осаждения тонких пленок PVD

Детали
Гибридная система осаждения тонких пленок PVD объединяет термическое испарение, электронно-лучевое (e-лучевое) испарение и магнетронное распыление RF/DC в рамках единой вакуумной архитектуры. Эта платформа позволяет последовательное или совместное-осаждение металлов, сплавов и диэлектриков без нарушения вакуума и предотвращения межфазного окисления. Разработанная для научно-исследовательских институтов и пилотных производственных линий, система обрабатывает носители толщиной до 6 дюймов с помощью автоматического много-осевого вращения.
Категория
Оборудование для производства композитных тонких пленок PVD
 
Отправить запрос
Описание
Технические параметры

Гибридная система осаждения тонких пленок PVD объединяет термическое испарение, электронно-лучевое (e-лучевое) испарение и магнетронное распыление RF/DC в рамках единой вакуумной архитектуры. Эта платформа позволяет последовательное или совместное-осаждение металлов, сплавов и диэлектриков без нарушения вакуума и предотвращения межфазного окисления. Разработанная для научно-исследовательских институтов и пилотных производственных линий, система обрабатывает носители толщиной до 6 дюймов с помощью автоматического много-осевого вращения.

 

Технические характеристики

 

Параметр

Спецификация

Предельное базовое давление

< 5.0 x 10^-6 Pa (baked out)

Время откачки-откачки

< 15 minutes to 1.0 x 10^-3 Pa

Размер подложки

Пластины диаметром до 6 дюймов / специальные держатели

Равномерность толщины пленки

<= +/- 1% across a 4-inch substrate (planetary rotation)

Источники осаждения

До 3 карманов для электронных-лучей, 2 тепловых лодочек, 4 магнетронных катодов

Температура подложки

Температура окружающей среды до 800 градусов Цельсия (ПИД-регулирование)

Материал камеры

Электрополированная нержавеющая сталь 304L/316L

Соответствие требованиям безопасности

CE-совместимый; компоненты, изготовленные по стандартам UL/NFPA, по запросу

 

Ключевые особенности


Модульные розетки:Сменные фланцы источника позволяют быстро менять конфигурацию между распылительными катодами и термическими/электронно-лучевыми испарителями.


Изоляционная архитектура:Пневматические задвижки изолируют технологическую камеру от трубы высокого-вакуума, чтобы свести к минимуму образование частиц.


Мониторинг на месте-:Выделенные порты для кварцевых микровесов (QCM) и оптической эмиссионной спектроскопии (OES).


ПЛК с блокировкой безопасности:Аппаратные блокировки предотвращают активацию источника при высоком давлении, отключении охлаждающей воды или нарушениях безопасности.

 

Конфигурация вакуумной системы


Черновой насос:Сухой спиральный насос (30 м^3/ч) для устранения обратного потока углеводородов.


Высоковакуумный насос:Турбомолекулярный насос на магнитной подвеске (1200 л/с для N2) с криогенной ловушкой.


Датчики:Комбинированные датчики Пирани и холодного катода, охватывающие атмосферу до 10^-7 Па.


Выпечка:Куртки картриджного нагревателя с внешними изоляционными слоями, выдерживающими температуру до 150 градусов C.

 

Совместимость материалов и подложек


Испарительные материалы:
Металлы:
Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Cu, Ni


Диэлектрики и оксиды: SiO2, TiO2, Al2O3, ITO


Полупроводники:Си, Ге


Типы субстратов:Монокристаллические кремниевые пластины, стекло, кварц, полиимидные пленки и металлическая фольга.

 

Приложения


Оптоэлектронные устройства:Прозрачные проводящие электроды (ITO) и многослойные-отражатели для органических светодиодов и солнечных элементов.


Микроэлектронная упаковка:Под-выступающая металлизация (UBM) и затравочные слои для упаковки на уровне пластины-.


Передовые исследования и разработки:Структуры квантовых устройств, тонкие сверхпроводниковые пленки и магнитные туннельные переходы (MTJ).

 

Параметры настройки


Масштаб камеры:Увеличенные размеры для 12-дюймовых подложек или интеграции перчаточного ящика.


Настройка источника:Пользовательские объемы тиглей, источники питания РЧ-смещения и модули ионно-ассистированного осаждения (IAD).


Автоматизация:Управление рецептами с помощью сенсорного экрана или полное соответствие стандартам автоматизации производства SECS/GEM.

 

Контроль качества


Тестирование на утечку:Тестирование гелиевого масс-спектрометра на камеру (< 1 x 10^-10 Pa*m^3/s threshold).


Проверка размеров:Проверка на КИМ расстояний от источника-до-подложки и допусков фланцев.


Электрические испытания:Привет-Проверка потенциометров, проверка целостности заземления и аудит EHS на всех-линиях высокого напряжения.

 

Установка и поддержка


Заводские приемочные испытания (FAT):На нашем предприятии перед-проверкой базового давления, работоспособности источника и автоматизированной цикличности.


Полевая установка:Механическая центровка на-площадке, проверка подключения к инженерным сетям и приемочные испытания на площадке (SAT).


Документация:В комплект поставки входят электрические схемы, диаграммы P&ID, резервные копии ПЛК и сертификаты заводских испытаний.

 

Часто задаваемые вопросы

 

Вопрос: Может ли система переключаться между реактивным распылением и термическим испарением за один проход?

А: Да. Пневматические заслонки изолируют каждый источник, позволяя выполнять последовательное действие без прерывания вакуума.

Вопрос: Каковы требования к коммунальным услугам объекта?

A: Требуется трехфазное питание 380/480 В, охлаждающая вода (от 18 до 22 градусов Цельсия при давлении 0,3 МПа), сжатый воздух (от 0,5 до 0,7 МПа) и выхлопная линия чернового насоса.

Вопрос: Как предотвращается перекрестное-загрязнение между металлическими источниками?

О. Дымоходы с отдельными источниками, направленные перегородки и физические жалюзи сводят к минимуму перекрестные-наводки материалов при работе с несколькими-источниками.

 

горячая этикетка : Гибридная система осаждения тонких пленок PVD, Китайские системы осаждения гибридных тонких пленок PVD, производители, поставщики, завод, тонкопленочная вакуумная система

Отправить запрос
Связаться с намиесли у вас есть вопросы

Вы можете связаться с нами по телефону, электронной почте или онлайн-форме ниже. Наш специалист свяжется с вами в ближайшее время.

Свяжитесь сейчас!