Серия EBE-V600 — это промышленная-платформа физического осаждения из паровой фазы (PVD), предназначенная для точного тонкопленочного-покрытия оптических компонентов, полупроводниковых приборов и современных материалов. Направляя высокоэнергетический магнитно-фокусированный электронный луч на исходные материалы внутри водо-тиглей с водяным охлаждением, система достигает высокой скорости испарения, сохраняя при этом тепловые нагрузки изолированными от стенок камеры.
Архитектура включает в себя несколько-карманных источников электронов и двойные кварцевые микровесы (QCM), обеспечивающие стехиометрическую точность пленки и постоянный контроль толщины много-слоевых диэлектрических или металлических стопок.
Технические характеристики
|
Технические параметры |
Спецификация Значение |
|
Геометрия и материал камеры |
Цилиндрический сосуд Φ600 x 600 мм; Внутренняя часть из нержавеющей стали SS304, электрополированная, с внешними водяными рубашками охлаждения. |
|
Предельное базовое давление |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (achieved via 12-hour bake-out and high-vacuum pumping) |
|
Время цикла откачки-откачки |
<= 15 minutes (From atmosphere to 1.0 x 10^-3 Pa) |
|
Мощность электронной пушки |
Многополюсная-карманная конфигурация мощностью от 6 кВт до 12 кВт с отклонением луча на 270 градусов. |
|
Емкость пода тигля |
От 4 до 6 карманов (сменные медные/графитовые тигли, объем от 15 до 40 куб.см на карман) |
|
Вращение столика с подложкой |
Планетарный или прямой привод с регулируемой скоростью от 0 до 30 об/мин. |
|
Диапазон нагрева подложки |
Температура окружающей среды до 600 градусов через матрицу галогенных ламп с замкнутым-контуром ФИД |
|
Мониторинг толщины |
Двойные датчики QCM с автоматическим управлением обратной связью затвора |
Ключевые особенности
Пистолет E- с магнитным отклонением на 270 градусов:Изолирует вольфрамовую нить от прямых путей пара, предотвращая короткое-замыкание и продлевая срок службы между интервалами технического обслуживания.
Цифровое управление разверткой:Программируемые растровые узоры равномерно распределяют энергию электронов по поверхности испаряющегося материала, уменьшая образование микропор и преимущественное испарение во время осаждения сплава.
Разделенная вакуумная архитектура:Линии черновой обработки и откачки высокого-вакуума конструктивно изолированы от рамы основной камеры для подавления передачи механической вибрации во время роста пленки.
Матрица безопасности аппаратной блокировки:Мониторинг с помощью ПЛК-в реальном времени расхода охлаждающей воды, обратной связи по высокому-напряжению, пневматического давления и целостности дверного уплотнения.
Конфигурация вакуумной системы
Вакуумный под-контур спроектирован для быстрой циклической работы и низкого базового давления, чтобы свести к минимуму попадание остаточного газа (H2O, O2, N2) в растущую пленку:
Высоковакуумный-насос:Турбо--молекулярный насос производительностью 1200 л/с с двухступенчатым пластинчато-роторным насосом (или насосом с сухой спиралью для соответствия требованиям чистых помещений).
Запорная арматура:Задвижка с высокой-проводимостью с пневматическим приводом, изолирующая камеру во время операций нагрузки.
Измерение вакуума:Комбинированные ионизационные датчики Пирани и холодного катода, охватывающие непрерывный диапазон от атмосферы до 10^-6 Па.
Пленочные материалы и подложки
Совместимые источники испарения
Оксиды и диэлектрики:SiO2, TiO2, Ta2O5, Al2O3, HfO2
Чистые металлы:Au, Ag, Al, Ti, Cr, Pt, Ni
Полупроводники и проводники:Si, Ge, ITO (оксид индия и олова)
Приложения
Оптические интерференционные фильтры:Многослойное осаждение-индекса и низкого-много-индекса для узкополосных-фильтров и лазерных зеркал.
Производство полупроводниковых приборов:Формирование омического контакта, осаждение затворного оксида и затравочные слои металла.
Исследования OLED и дисплеев:Испытания на тонкое катодное осаждение и-многослойную органическую/неорганическую пассивацию.
Твердые огнеупорные покрытия:Защитные износостойкие-слои для механических и аэрокосмических компонентов.
Кастомизация
Расширение камеры:Увеличенная высота резервуара или прямоугольная геометрия, адаптированная для интеграции кластерного инструмента.
Интеграция источников:Параллельные источники термического испарения (резистивные лодочки) в сочетании с электронно-лучевыми пушками.
Ионное-осаждение с помощью ионов (IAD):Интеграция конечного-источника ионов Холла или Кауфмана для уплотнения пленки и настройки напряжения.
Архитектура программного обеспечения:Программирование рецептов ПЛК/ЧМИ, совместимое с системами автоматизации Siemens S7 или Beckhoff.
Контроль качества
Масс-спектрометрическое испытание на утечку гелия:Перед интеграцией каждая сварная конструкция камеры испытывается на порог отбраковки < 1 x 10^-9 Па·м3/с.
Электротехническое соответствие:Испытания на диэлектрическую стойкость-высокого напряжения и проверка целостности заземления в соответствии с рекомендациями CE/UL.
Заводские приемочные испытания (FAT):72-непрерывный сухой-испытательный запуск, регистрация кривых базового давления, повторяемости развертки электронного луча и времени срабатывания блокировки. Документация по испытаниям поставляется вместе с устройством.
Установка и техническая поддержка
Ввод объекта в эксплуатацию:Сертифицированные заводом инженеры-выполняют механическое выравнивание, проверку утечки вакуума, контроль подключения к инженерным сетям и первоначальную калибровку.
Техническая подготовка:3-дневное обучение протоколам эксплуатации и технического обслуживания на месте, включающее замену нити накаливания, восстановление вакуумного клапана и редактирование рецептов.
Результаты документации:Полные технические подшивки, включая схемы P&ID, электрические схемы, файлы резервных копий ПЛК и перечень запасных частей.
Часто задаваемые вопросы
Вопрос: Каков срок службы вольфрамовой нити электронной пушки и как она обслуживается?
A: При стандартном рабочем давлении (<= 10^-4 Pa) and clean source materials, filament lifespan averages 30 to 50 operational hours. A quick-access vacuum flange allows cartridge exchange within 20 minutes without venting the entire manifold.
Вопрос: Как система предотвращает разбрызгивание во время осаждения оксида?
Ответ: Генератор цифровой развертки распределяет энергию электронов по рассчитанной растровой матрице на оксидной таблетке. Это исключает локальный перегрев, предотвращает взрывное кипение и подавляет выброс микро-капель.
Вопрос: Какая инженерная инфраструктура обязательна на месте установки?
A: Cooling Water: Supply pressure 0.25 MPa to 0.4 MPa, flow rate >= 30 л/мин, температура от 18 до 25 градусов.
Электрическая сеть: 3-фаза, 380 В ± 10 %, 50/60 Гц (или настроена на заводе в соответствии с региональными стандартами).
Сжатый воздух: сухой воздух от 0,5 МПа до 0,7 МПа для пневматических приводов клапанов.
Вопрос: Интегрирован ли доступ к удаленной диагностике в систему управления?
А: Да. Изолированный порт Ethernet поддерживает безопасное VPN-соединение для удаленного получения журналов ПЛК и устранения неполадок программного обеспечения нашей командой инженеров.
горячая этикетка : оборудование для тонкопленочного испарения электронным лучом, Китай оборудование для тонкопленочного испарения электронным лучом производители, поставщики, завод, система обработки тонкой пленки

